[发明专利]基板处理系统、基板处理方法及计算机可读取的存储介质有效
| 申请号： | 200710005555.5 | 申请日： | 2007-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101017329A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 大塚贵久;柴田刚 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在本发明中，在涂布显影处理系统中的加热处理装置的基台上，呈直线状并排设有多个热处理板。在加热处理装置中设有在相邻热处理板之间的各区间搬送基板的3个搬送部件群。在加热处理装置中实施前烘处理时，基板被依次搬送到温度相同的热处理板上，并在各热处理板上分割开来进行热处理。在本发明中，各基板在热处理时都经过了相同的路径，因此，在各基板之间的加热经历是固定的。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 方法 计算机 读取 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理系统，其特征在于：至少具有，将抗蚀剂涂布在基板上的涂布处理装置、对基板实施显影处理的显影处理装置、以及对基板实施热处理的热处理装置，并在基板上形成抗蚀剂图案，所述涂布处理装置、显影处理装置或热处理装置中的至少一个处理装置具有将处理分割开来予以实施的多个处理部。
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