[发明专利]显示装置的制造方法有效

专利信息
申请号: 200710005589.4 申请日: 2007-02-13
公开(公告)号: CN101022092A 公开(公告)日: 2007-08-22
发明(设计)人: 高畠胜;金子寿辉;田边英夫 申请(专利权)人: 株式会社日立显示器
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/768;H01L21/3213;G02F1/1362
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种显示装置的制造方法,在具有反射区域和透射区域的液晶显示装置中,抑制工序数增加地制造反射电极和透射电极。对具有透射区域和反射区域的像素,连续层叠形成反射电极的金属膜和形成透射电极的透明导电膜。将抗蚀剂膜曝光显影,形成第1图案,同时蚀刻金属层和透明导电膜。然后通过灰化在抗蚀剂膜形成第2图案,蚀刻金属层。另外,利用有机树脂层作为形成接触孔的掩模。
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【主权项】:
1.一种具有被配置成矩阵状的像素的显示装置的制造方法,包括:在基板上形成源极电极的步骤;在上述源极电极之上层叠第1绝缘膜和第2绝缘膜的步骤;在上述第1绝缘膜和第2绝缘膜中形成接触孔的步骤;在上述第1绝缘膜和第2绝缘膜之上层叠第1导电膜和第2导电膜,并通过上述接触孔连接上述源极电极和上述第1导电膜的步骤;使用抗蚀剂膜的第1图案蚀刻第1导电膜和第2导电膜的步骤;除去上述抗蚀剂膜的一部分,形成第2图案的步骤;以及使用上述第2图案蚀刻上述第2导电膜的步骤。
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