[发明专利]制造垂直磁记录盘的方法

摘要

本发明提供用于制造垂直磁记录盘的方法，该盘具有包含添加的氧化物或多种氧化物且在hcp中间层(IL)上生长的六角密堆积(hcp)颗粒钴合金记录层(RL)，该方法包括粗糙化所述IL的表面。该IL，通常是hcp Ru或Ru合金，在显著低于现有技术的溅射压强下沉积，得到IL较少的柱状结构和更光滑的IL表面。IL的相对光滑表面然后利用离子轰击例如在Ar中溅射蚀刻被修改从而提供“纳米粗糙化”表面，该表面上生长RL。该IL的粗糙化表面在RL生长时促进RL中的晶粒分离。然而，由于该IL具有较少的柱状结构，所以存在较少的用于水和腐蚀剂的路径。

主权项

1.一种用于制造垂直磁记录介质的方法，包括：提供衬底；在所述衬底上以第一溅射压强溅射沉积中间层；用离子轰击所述中间层的表面；以及以比用于所述中间层的所述沉积的所述溅射压强基本更高的溅射压强在所述中间层的所述表面上溅射沉积磁记录层。