[发明专利]掩模成膜方法及掩模成膜设备无效
| 申请号： | 200710006325.0 | 申请日： | 2007-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN101013274A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 畠山英之;薮修一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H05B33/00;H01L21/027;H01L21/00;C23C14/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基板和掩模以高的对准精度彼此紧密粘接。在基板的两端夹在基板支撑部件和平面部件之间的同时，借助于基板挤压部件以凸起形式弯曲基板的中心部分。在掩模支座上，借助于掩模挤压部件相对于基板也以凸起形式弯曲掩模。在进行掩模和基板之间沿平面方向的对准后，使掩模和基板彼此靠近，并在最初阶段使凸起部分彼此紧密粘接，然后，在向后移动基板挤压部件和掩模挤压部件的同时，使基板和掩模的各自的整个表面彼此紧密粘接，可以省略掩模挤压部件。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模成膜 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种成膜方法，用于经由掩模的开口施加成膜材料而在基板上形成膜，该方法包括：弯曲基板和掩模的至少之一以及沿脊线部分使基板和掩模彼此对准的对准步骤；使基板和掩模沿脊线部分彼此接触的线接触步骤；和使基板和掩模彼此面接触的面接触步骤。
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