[发明专利]电光装置及其制造方法、电光装置用基板及电子设备无效
| 申请号： | 200710007057.4 | 申请日： | 2007-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN101017269A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 中村定一郎 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1343;G09F9/35 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 李峥;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在液晶装置等的电光装置中，有效地使透过率提高，进行高质量的显示。电光装置具备：TFT阵列基板(10)，和由设置于TFT阵列基板(10)的ITO膜构成的像素电极(9a)。而且，具备：在TFT阵列基板(10)上叠层于TFT阵列基板(10)和像素电极(9a)之间，具有TFT阵列基板(10)的折射率和像素电极(9a)的折射率的中间的大小的折射率，并且，膜厚在55～100nm的范围内的光学薄膜(91)。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 及其 制造 方法 用基板 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，其特征在于，具备：基板；由设置于前述基板上的透明导电膜构成的透明电极；和叠层于前述基板和前述透明电极之间，具有前述基板的折射率和前述透明电极的折射率的中间的大小的折射率，并且，膜厚在55～100nm的范围内的光学薄膜。
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