[发明专利]用于制造线栅偏振器的系统和方法无效
| 申请号： | 200710008117.4 | 申请日： | 2007-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN101126894A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 秋大镐 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供用于制造线栅偏振器的系统和方法，包括：用于在基板上形成薄金属膜层的沉积单元、用于在薄金属膜层上涂覆光致抗蚀剂并用于烘焙光致抗蚀剂的涂覆单元、包括其上形成图案的印模并用于把印模压到光致抗蚀剂上且由此把印模的图案转移到光致抗蚀剂上的模压单元、以及用于固化光致抗蚀剂的固化单元。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 偏振 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造线栅偏振器的系统，包括：用于在基板上形成薄金属膜层的沉积单元；用于在所述薄金属膜层上涂覆光致抗蚀剂并用于烘焙所述光致抗蚀剂的涂覆单元；模压单元，包括其上形成了图案的印模，用于把所述印模压到所述基板的所述光致抗蚀剂上并由此把所述印模的图案转移到所述光致抗蚀剂上；以及用于固化所述光致抗蚀剂的固化单元。
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