[发明专利]CVD金刚石涂层刀具的微波等离子退涂、重涂方法无效
申请号: | 200710013866.6 | 申请日: | 2007-03-28 |
公开(公告)号: | CN101029385A | 公开(公告)日: | 2007-09-05 |
发明(设计)人: | 刘战强;刘继刚;艾兴 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/27;C23C16/52 |
代理公司: | 济南圣达专利商标事务所 | 代理人: | 王书刚 |
地址: | 250061山*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种CVD金刚石涂层刀具的微波等离子退涂、重涂方法,包括以下步骤:(1)将现有微波等离子真空室下部另外加工出一个氧气入口;(2)将磨损后的CVD金刚石涂层刀具固定于微波等离子真空室内,使电磁线圈断电,将微波等离子真空室抽真空后输入氧气和2.45GHz微波等离子束,使刀具的金刚石涂层燃烧形成微粒;冷却后清除微粒,退涂过程完成;(3)将退涂后的刀具清洁处理后,置入微波等离子真空室采用现有微波等离子CVD工艺生长出金刚石涂层,完成重涂翻新过程。本发明利用微波等离子真空室,输入氧气进行CVD金刚石刀具的退涂;不输入氧气时进行CVD金刚石刀具的重涂,简单方便、退涂重涂效率高,重涂翻新后刀具的使用寿命长。 | ||
搜索关键词: | cvd 金刚石 涂层 刀具 微波 等离子 方法 | ||
【主权项】:
1.一种CVD金刚石涂层刀具的微波等离子退涂、重涂方法,其特征是:包括以下步骤:(1)将现有微波等离子真空室改造,在其下部另外加工出一个氧气入口;(2)将磨损后的CVD金刚石涂层刀具固定于改造后的微波等离子真空室内,使电磁线圈断电,将微波等离子真空室抽真空后,通过其氧气入口输入氧气,同时通过其顶部的微波等离子束入口输入2.45GHz微波等离子束,使刀具的金刚石涂层在微波等离子真空室内加热、氧化至完全燃烧,在刀具基体上形成微粒;然后取出刀具,冷却后清除微粒,露出刀具基体,退涂过程完成;(3)将退涂后的刀具清洁处理后,再次置入微波等离子真空室,关闭其氧气入口,使电磁线圈通电,采用现有微波等离子CVD工艺,在退涂后的刀具基体表面上生长一层金刚石涂层,完成重涂翻新过程。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东大学,未经山东大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710013866.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:大功率发光二极管点胶工艺
- 下一篇:杉木硬化地板
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的