[发明专利]超细活性硅的加工方法无效
| 申请号： | 200710013967.3 | 申请日： | 2007-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101058423A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张仁水;曲来印;王明远;张小彦 | 申请（专利权）人： | 张仁水 |
| 主分类号： | C01B33/113 | 分类号： | C01B33/113;C04B14/06 |
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| 地址： | 271019山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种超细活性硅的加工方法，其特征是，它的加工步骤如下：将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2％；把烘干的石英砂粉料从一个具有1800－3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中，使石英砂粉料呈旋浮状态，慢慢下落，保证炉内高温区有5－30秒的加热时间使之活化；活化后的超细粉自然落入高温炉底，排出后立即进行冷却，使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下，即成为成品；上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的，炉内的高温区由激光束或等离子束产生。本发明是一种连续生产超细活性硅的加工方法，生产工艺简单、实用，成本低，每吨成本不足200元，填补了超细活性硅生产的空白。 | ||
| 搜索关键词： | 细活 加工 方法 | ||
【主权项】：
1、一种超细活性硅的加工方法，其特征是，它的加工步骤如下：(1)将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2％；(2)把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中，使石英砂粉料呈旋浮状态，慢慢下落，保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化；(3)活化后的超细粉自然落入高温炉底，排出后立即进行冷却，使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下，即成为成品；上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的，炉内的高温区由激光束或等离子束产生。
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