[发明专利]掺杂铬的非晶态石墨减摩镀层及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710017202.7 申请日: 2007-01-05
公开(公告)号: CN100999812A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 蒋百灵;张国君 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35;C23C14/54;B32B15/04;C10M103/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 代理人: 罗笛
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种掺杂铬的石墨镀层,该镀层为非晶态结构,硬度高,摩擦系数低,具有自润滑功能,由铬和非晶态石墨组成,其中铬元素占镀层质量百分数的3%~8%,镀层厚度为1.0μm~1.5μm,硬度为1500HV~2200HV,摩擦系数为0.08~0.12。该镀层的制备方法是,采用4靶闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备,经过抽真空、离子轰击清洗、镀膜等工序制成。本发明提出的掺杂铬的非晶石墨减摩镀层的制备方法工艺简捷稳定,工序少、可满足高精度减摩工件对镀层的需求。
搜索关键词: 掺杂 晶态 石墨 镀层 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种掺杂铬的非晶态石墨减摩镀层,其特征在于,该镀层由铬和非晶态石墨组成,其中铬元素占镀层质量百分数的3%~8%,镀层厚度为1.0μm~1.5μm,硬度为1500HV~2200HV,摩擦系数为0.08~0.12。
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