[发明专利]薄膜残余应力测量结构及其制作和测试方法无效
| 申请号： | 200710017231.3 | 申请日： | 2007-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101051018A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 苑伟政;虞益挺;乔大勇;梁庆 | 申请（专利权）人： | 西北工业大学 |
| 主分类号： | G01N13/00 | 分类号： | G01N13/00;B81B3/00;B61C1/00 |
| 代理公司： | 西北工业大学专利中心 | 代理人： | 顾潮琪 |
| 地址： | 710072陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜残余应力测量结构及其制作和测试方法，将任意形状的测试平板1通过任意形状和位置的支撑锚点2悬置于基底3上，牺牲层4填充在测试平板1和基底3之间，测试平板1的厚度、支撑锚点2的高度均与待测应力的器件一致。测试时，将待测应力的器件和薄膜残余应力测量结构6置于腐蚀液7内，当测试平板1的自由端悬置长度δ达到某一临界值时，其悬置部分将出现瞬间的屈曲变形，记录下该时刻的δ值以及屈曲变形模态，以此分析计算得到测试平板1中的残余应力大小及其状态。本发明极大地节省了器件版图空间，提高了版图空间的利用率，并且利用一个薄膜残余应力测量结构6就能同时满足大量程的残余压应力或拉应力的测量要求。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 残余 应力 测量 结构 及其 制作 测试 方法 | ||
【主权项】：
1、薄膜残余应力测量结构，包括一个测试平板1、一个支撑锚点2和牺牲层4，其特征在于：测试平板1通过支撑锚点2悬置于基底3上，牺牲层4填充在测试平板1和基底3之间；支撑锚点2的位置和形状任意，测试平板1的形状任意，测试平板1的厚度与待测应力器件的薄膜厚度一致，支撑锚点2的高度与待测应力器件的锚点高度一致。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北工业大学，未经西北工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710017231.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
