[发明专利]一种制备纳米材料的真空管式设备无效
| 申请号： | 200710017879.0 | 申请日： | 2007-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN101063226A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 王发展;原思聪 | 申请（专利权）人： | 西安建筑科技大学 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B29/22 |
| 代理公司： | 西安西达专利代理有限责任公司 | 代理人： | 第五思军 |
| 地址： | 710055*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制备纳米材料的真空管式设备，它包括密封的真空室(2)，所述真空室(2)设置在炉体(1)内，真空室(2)内气流下游处设置有衬底(7)，其特征是：该真空室(2)连接有至少一个能控制和调节源材料蒸发速率的源材料蒸发器(16)。本发明采用控制源组分通量技术，可实现组分的精确控制、梯度掺杂和衬底的原位操作等功能；全系统由计算机控制，因此自动化程度高、控制精度高、数据的准确性强；该设备还具有设备简单、结构紧凑、操作简便、使用费用低等、生产效率高、节约能源优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 材料 真空管 设备 | ||
【主权项】：
1、一种制备纳米材料的真空管式设备，它包括密封的真空室(2)，所述真空室(2)设置在炉体(1)内，所述真空室(2)设有用于输送源材料蒸气的载气(11)和用于与源材料蒸气反应的载气(12)，真空室(2)内气流下游处设置有衬底(7)，其特征是：该真空室(2)连接有至少一个能控制和调节源材料蒸发速率的源材料蒸发器(16)。
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