[发明专利]一种高密度无机材料光栅的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710018545.5 申请日: 2007-08-27
公开(公告)号: CN101165514A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 赵高扬;王哲哲 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 西安弘理专利事务所 代理人: 罗笛;谈耀文
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种高密度无机材料光栅的制备方法,首先采用感光溶胶-凝胶法制备感光薄膜,进而采用激光干涉法制备高密度光栅,结合热处理工艺获得无机薄膜光栅,接着采用化学刻蚀法以提高光栅的深宽比,最后对光栅进行表面镀金处理。该方法有效地结合激光干涉法和化学刻蚀法,采用碘饱和的KOH各向异性刻蚀剂对无机光栅进行湿法化学刻蚀,提高光栅的深宽比,从而有效地提高光栅的衍射效率,对刻蚀后的光栅进行表面镀金处理,提高光栅的表面光洁度和反射率,使得光栅的衍射效率得到进一步的提高。该方法工艺简单,成本较低,可制备具有高衍射效率的高密度无机材料光栅。
搜索关键词: 一种 高密度 无机 材料 光栅 制备 方法
【主权项】:
1.一种高密度无机材料光栅的制备方法,其特征在于,该方法按以下步骤进行,a.采用感光溶胶-凝胶法制备感光薄膜以金属化合物、酮类或二酮类化合物为出发原料,采用溶胶-凝胶法制备具有紫外感光性的含金属螯合物的凝胶薄膜,通过提拉,旋涂等方法将凝胶薄膜涂在硅基底上;b.采用激光干涉法制备高密度光栅,并使之转化为无机材料光栅采用紫外激光器作为光源,使两束满足干涉条件的平行光以相同的角度照射到步骤a得到的感光凝胶薄膜表面,使之产生干涉条纹,干涉曝光后,将凝胶薄膜和基板浸入有机溶剂中,未光照区域在有机溶剂中完全溶解,光照区域则保留下来,从而得到凝胶薄膜光栅;进一步在大气环境下,将凝胶薄膜光栅进行热处理,使之转化为无机材料光栅;c.对无机材料光栅进行化学刻蚀配制硅的各向异性化学刻蚀剂,搅拌至澄清,将上步得到的无机材料光栅浸入刻蚀剂中,在超声波中进行刻蚀,得到一个表面被无机材料薄膜覆盖的硅槽光栅;d.将上步刻蚀后的光栅进行表面镀金处理,即完成制备过程。
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