[发明专利]光学测量系统的屏蔽方法无效
| 申请号： | 200710020864.X | 申请日： | 2007-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101183152A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 陈荣发;赵毅红 | 申请（专利权）人： | 扬州大学 |
| 主分类号： | G01S17/08 | 分类号： | G01S17/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 扬州苏中专利事务所 | 代理人： | 胡定华 |
| 地址： | 225009*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学测量系统的屏蔽方法，其特征是在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜。镀膜步骤包括：将光学k9玻璃镜面进行预处理；采用DHK－500镀膜装置和ITO烧结靶；将预处理的镜片装夹在基片架上，镜片与靶面之间距离为40～50mm；抽真空，充入氩气，施加射频电压，形成等离子区，通入氧气，监控薄膜生长厚度；对光学k9玻璃表面上沉积薄膜ITO膜，经过真空退火工艺，制得ITO透明导电薄膜。本发明工艺合理先进，在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜，使光学测量仪器在各种环境下工作，都能排除电磁干扰，提高光学测量仪器的测量质量和精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 系统 屏蔽 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测量系统的屏蔽方法，其特征是在光学测量系统的光学k9玻璃表面上镀ITO透明导电薄膜。
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