[发明专利]半导体芯片电接点用金属凸块的圆角补偿方法无效

专利信息
申请号: 200710022571.5 申请日: 2007-05-15
公开(公告)号: CN101071782A 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 陈文勇;许红飞 申请(专利权)人: 颀中科技(苏州)有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 马明渡
地址: 215123江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种半导体芯片电接点用金属凸块(bump)的圆角补偿方法,其特征在于:在采用光刻与电镀方法相结合的金属凸块制作过程中,将光罩上凸块图形中理论设计的各拐角向外侧延伸,增加开窗尺寸,弥补凸块图形拐角在显影中向内的收缩变形,从而保证实际制作的金属凸块拐角与理论设计的几何形状一致。本发明涉及半导体集成电路封装技术领域,解决了金属凸块(bump)制作过程中拐角变形成圆角的问题,优化了凸块的角部形状,提高产品的性能及合格率。
搜索关键词: 半导体 芯片 接点 金属 补偿 方法
【主权项】:
1、一种半导体芯片电接点用金属凸块的圆角补偿方法,其特征在于:在采用光刻与电镀方法相结合的金属凸块制作过程中,将光罩上凸块图形中理论设计的各拐角向外侧延伸,增加开窗尺寸,弥补凸块图形拐角在显影过程中向内的收缩变形,从而保证实际制作的金属凸块拐角与理论设计的几何形状一致。
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