[发明专利]阳光控制低辐射、紫外线截止、光催化杀菌多功能镀膜玻璃及其制备方法

摘要

本发明公开了阳光控制低辐射、紫外线截止、光催化杀菌多功能镀膜玻璃及其制备方法，镀膜玻璃的膜层结构自基片玻璃依次向外为：玻璃、阳光控制红外线反射膜层、紫外线截止膜层、光催化杀菌膜层(紫外线截止膜层、阳光控制红外线反射膜层次序可以互换)；其中阳光控制红外线反射膜层的化学组成为：透明宽带隙半导体氧化物：In₂O₃:Sn膜、SnO₂:Sb膜或ZnO:Al膜；紫外线截止膜层的化学组成为：氧化钛和氧化铈的复合物；光催化杀菌膜层的化学组成为：锐钛矿结构二氧化钛。其制备方法如下：首先对玻璃基片进行清洗、干燥，再进行预真空过渡；然后配制靶材；再采用磁控溅射方法镀制膜层。

主权项

1、阳光控制低辐射、紫外线截止、光催化杀菌多功能镀膜玻璃，其特征在于：镀膜玻璃的膜层结构自基片玻璃依次向外为：玻璃、阳光控制红外线反射膜层、紫外线截止膜层、光催化杀菌膜层，或玻璃、紫外线截止膜层、阳光控制红外线反射膜层、光催化杀菌膜层；其中阳光控制红外线反射膜层的化学组成为：透明宽带隙半导体氧化物：In2O3:Sn膜、SnO2:Sb膜或ZnO:Al膜；紫外线截止膜层的化学组成为：氧化钛和氧化铈的复合物；光催化杀菌膜层的化学组成为：锐钛矿结构二氧化钛；紫外线截止膜层中各组份质量百分比为氧化钛(0～90％)：氧化铈(10～100％)，膜层厚度为10-500纳米；阳光控制红外线反射膜层中的透明宽带隙半导体氧化物各组份质量百分比为：In2O3(50.0％～99.0％)∶Sn(50.0％～1.0％)、或者SnO2(80.0％～99.9％)∶Sb(20.0％～0.1％)、或者ZnO(85.0％～99.9％)∶Al(15.0％～0.1％)，膜层厚度为10-500纳米；光催化杀菌膜层为：锐钛矿TiO2，膜层厚度为10-500纳米。