[发明专利]异质栅多阶梯场极板横向双扩散金属氧化物半导体管无效

专利信息
申请号: 200710023524.2 申请日: 2007-06-01
公开(公告)号: CN101079446A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 陈军宁;柯导明;代月花;高珊;徐超;孟坚;吴秀龙 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/49;H01L29/423
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 代理人: 何梅生
地址: 23003*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 异质栅多阶梯场极板横向双扩散金属氧化物半导体管,其特征是设置源栅和漏栅的异质双栅结构,由第一级场极板和第二级场极板构成多阶梯场极板,源栅、漏栅、第一级场极板和第二级场极板依次相连;源和漏分别设置在沟道阱区和阱漂移区上;栅氧化层设在源栅、漏栅与沟道阱区之间,在沟道阱区上设有阱接触孔;场氧化层在第一级场极板、第二级场极板以及阱漂移区之间;氧化层覆盖在多阶梯场极板之上;沟道阱区和阱漂移区均位于衬底之上。本发明在保持横向双扩散金属氧化物半导体管击穿特性的基础上,有效提高驱动电流、跨导,减小导通电阻,并降低功耗。
搜索关键词: 异质栅多 阶梯 极板 横向 扩散 金属 氧化物 半导体
【主权项】:
1、异质栅多阶梯场极板横向双扩散金属氧化物半导体管,其特征是设置源栅(3)和漏栅(4)的异质双栅结构,由第一级场极板(11)和第二级场极板(12)构成多阶梯场极板,源栅(3)、漏栅(4)、第一级场极板(11)和第二级场极板(12)依次相连;源(1)和漏(2)分别设置在沟道阱区(6)和阱漂移区(7)上;栅氧化层(8)设在源栅(3)、漏栅(4)与沟道阱区(6)之间,在沟道阱区(6)上设有阱接触孔(61);场氧化层(9)在第一级场极板(11)、第二级场极板(12)以及阱漂移区(7)之间;氧化层(10)覆盖在所述多阶梯场极板之上;沟道阱区(6)和阱漂移区(7)均位于衬底(5)之上。
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