[发明专利]铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液无效
| 申请号： | 200710026159.0 | 申请日： | 2007-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN101368068A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 仲跻和 | 申请（专利权）人： | 江苏海迅实业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226600江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其包括磨料、表面活性剂、络合剂，氧化剂，pH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，表面活性剂为5％至20％，络合剂为0.01％至0.6％，pH调节剂为1％至6％，去离子水为余量；前述各组分混合液的pH值为10至12；可用于铜的表面抛光加工中，抛光速率快，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 中用 纳米 二氧化硅 磨料 | ||
【主权项】：
1.一种铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：包括磨料、表面活性剂、络合剂、PH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，表面活性剂为5％至20％，络合剂为0.01％至0.6％，PH调节剂为1％至6％，去离子水为余量。
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