[发明专利]一种呋脲苄青霉素晶体及其制备方法有效
申请号: | 200710026939.5 | 申请日: | 2007-02-14 |
公开(公告)号: | CN101245075A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | 于沛;叶海鸿 | 申请(专利权)人: | 广州白云山制药股份有限公司 |
主分类号: | C07D499/68 | 分类号: | C07D499/68 |
代理公司: | 广州三辰专利事务所 | 代理人: | 范钦正 |
地址: | 510515广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种呋脲苄青霉素晶体及其制备方法,以α射线粉末衍射图谱表征其晶体。该结晶是由呋脲苄青霉素酸溶液用碱液中和,萃取去除杂质后,再酸化调至产物等电点,水洗除去杂质,用溶媒结晶法析出呋脲苄青霉素酸晶体。本发明得到的呋脲苄青霉酸晶体性质稳定,方便运输和储存,具有很好的工业适用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 呋脲苄 青霉素 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1. 呋脲苄青霉素晶体,其特征是使用Cu-Kα射线粉末衍射图,以2θ角、面间距d和相对强度I/I0表征如下: 2-theta d-value I/I0 11.940 7.4057±0.2 100 16.100 5.5004±0.2 51 17.060 5.1929±0.2 33 23.340 3.8080±0.1 30 。
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C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物
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