[发明专利]一种超薄瓷质抛光砖及其制作工艺有效
| 申请号： | 200710027150.1 | 申请日： | 2007-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101050107A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 刘一军;母军;汪庆刚 | 申请（专利权）人： | 萧华 |
| 主分类号： | C04B35/16 | 分类号： | C04B35/16;C04B35/622 |
| 代理公司： | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人： | 梁国杰 |
| 地址： | 528211广东省佛山市南海*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明特指一种用来生产超薄瓷质抛光砖及其制作工艺，其原料按重量百分比组成为长石类熔剂20～40％，粘土类原料20～30％，钙镁质原料0～8％，抗脆剂10～30％，坯体增强剂0.1～1％。也可外加1～20％能发射阴离子和远红外线的陶瓷粉制成功能性超薄瓷质抛光砖。将以上原料通过配料—球磨—过筛—除铁—喷雾干燥制粉—陈腐—压制成型—干燥—烧成—抛光—分级拣选，制成本发明的800×1800×(3～6)mm瓷质砖。坯体中引入了较多的抗脆剂，以保证超薄砖有足够的烧成强度。采用本发明制备的陶瓷坯体具有质轻，节能，能发射阴离子和远红外线的特点，属于新型环保类建筑装饰材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超薄 抛光 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种超薄瓷质抛光砖，其特征在于其坯料原料主要由如下比例的组分组成：长石类熔剂20～40％，粘土类原料20～30％，钙镁质原料0～8％，抗脆剂10～30％，坯体增强剂0.1～1％，以及能发射阴离子和远红外线的陶瓷粉体1～20％。
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