[发明专利]山药定向槽浅生栽培方法无效

专利信息
申请号: 200710028266.7 申请日: 2007-05-26
公开(公告)号: CN101057541A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 林桂发;卢炎标 申请(专利权)人: 林桂发
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01C14/00
代理公司: 揭阳市博佳专利代理事务所 代理人: 黄少松;黄镜芝
地址: 515535*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种山药定向槽浅生栽培方法,技术方案包含,按垄体包沟行距为L1=0.9~1.7m,开挖斜面宽度为L2=0.5~1.1m,斜面坡度为α=12~40度,斜面的底部距地面高度为H1=13~38cm,斜面的顶部升起地面并距地面高度为H2=8~15cm;在斜面上撒施常规基肥后,沿斜面按株距20~25cm开挖与定向槽匹配的小沟,该小沟顺着斜面坡向开挖,然后,在小沟内放置定向槽,并在定向槽内置入松软填料;回填厚度为H3=5~15cm的耕作土,并整理成为带有边沟的垄体,该边沟的宽度和深度按常规处理;在水平距定向槽上端1~3cm、竖向距定向槽上端4~10cm的上方处种下薯种。具有适合在各种土壤中种植、采收方便、产量高、品质好、商品性状好的优点,适用于各种薯蓣科山药栽培种植。
搜索关键词: 山药 定向 槽浅生 栽培 方法
【主权项】:
1、一种山药定向槽浅生栽培方法,包含:A)、按垄体包沟行距为L1=0.9~1.7m开挖斜面宽度为L2=0.5~1.1m,斜面坡度为α=12~40度,斜面的底部距地面高度为H1=13~38cm,斜面的顶部升起地面并距地面高度为H2=8~15cm;B)、在斜面上撒施常规基肥后,沿斜面按株距20~25cm开挖与定向槽匹配的小沟,该小沟顺着斜面坡向开挖,然后,在小沟内放置定向槽,并在定向槽内置入松软填料;C)、回填厚度为H3=5~15cm的耕作土,并整理成为带有边沟的垄体,该边沟的宽度和深度按常规处理;D)、在水平距定向槽上端1~3cm、竖向距定向槽上端4~10cm的上方处种下薯种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于林桂发,未经林桂发许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710028266.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top