[发明专利]一类压电单晶体及其生长方法无效

专利信息
申请号: 200710036836.7 申请日: 2007-01-25
公开(公告)号: CN101029417A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: 安华;徐家跃;钱国兴;陆宝亮;侍敏莉;张爱琼;李新华;林雅芳 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B29/34 分类号: C30B29/34;C30B11/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 潘振甦
地址: 200050上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一类新型压电单晶体及其坩埚下降生长方法。其特征在于:通过同族元素替代形成了的压电晶体,通式为Sr3-xMexNbGa3Si2O14,其中Me为Ca或Ba,x=0.1-2.9;优先0.1≤x≤1.5,所述的生长方法是按Sr3-xMexNbGa3Si2O14化学计量比配料,均匀混合,在1150~1170℃预烧8~12小时,通过固相反应,合成多晶原料;将合成料装入底部事先放入籽晶的坩埚中,然后将坩埚置于下降法生长炉中,在1450~1480℃温度范围熔化原料及籽晶顶部,生长界面温梯维持在20~40℃/cm,坩埚下降速度小于3mm/h。可根据需要生长不同方向、形状和尺寸的压电单晶,具有工艺设备简单,操作方便,一炉多产等优点,适合于工业规模化晶体的生长或生产。
搜索关键词: 一类 压电 单晶体 及其 生长 方法
【主权项】:
1、一类压电晶体,其特征在于所述的压电单晶体是通过同族元素替代,方法形成的,其通式为Sr3-xMexNbGa3Si2O14,0.1≤x≤2.9,Me为Sr的同族元素Ca或Ba。
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