[发明专利]亲水性低截留分子量复合超滤膜制备方法无效

专利信息
申请号: 200710037396.7 申请日: 2007-02-09
公开(公告)号: CN101053779A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 施利毅;刘达;方建慧;曹志源;沈霞 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D71/68;B01D71/82
代理公司: 上海上大专利事务所 代理人: 何文欣
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种亲水性低截留分子量复合超滤膜制备方法。该发明以聚砜或聚醚砜为膜材料,通过相转化法制备了疏水性的、具有较高截留分子量的超滤膜基膜;在此基础上,利用层层静电自组装技术在超滤膜基膜上组装聚电解质多层膜作为复合层,从而得到亲水性低截留分子量的复合超滤膜。本发明所述的复合超滤膜制备方法具有成本低,工艺简单等特点。用本发明所述方法制得的复合超滤膜表面荷电且电性可控,表层结构可控,对低分子量溶质有良好的截留性能,同时具有较好的抗污染性能。
搜索关键词: 亲水性 截留 分子量 复合 超滤膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种亲水性低截留分子量复合超滤膜的制备方法,其特征在于该方法具有如下步骤:a.配制铸膜液:以1-甲基-2-吡咯烷酮为溶剂,其中各组分及其质量百分比浓度为:聚砜或聚醚砜10%~22%、聚乙烯吡咯烷酮1%~10%、丙酮0%~1.5%;充分搅拌使各组分完全溶解,而后密封静置24小时,以使铸膜液完全脱泡;b.将上述配制好的铸膜液均匀平铺在支撑材料聚酯无纺布上,至膜层厚度达到0.1mm~0.2mm,静置10~40秒以蒸发其表面的部分溶质,而后迅速浸入凝结浴中成膜,即得到超滤膜基膜;所述的凝结浴为含有质量百分比浓度为0%~6%的NaCl的去离子水;制备过程中环境湿度控制在50%~70%;c.将步骤b中制备的超滤膜基膜用去离子水清洗干净之后,将其置于去离子水中浸泡5~10小时,中间每隔2小时换水一次;d.将步骤c中的所得的超滤膜基膜浸入浓度为0.0~0.10mol/L的聚苯乙烯磺酸钠溶液中10~30min,其中NaCl的浓度为0.0mol/L~2.5mol/L;使用纯水洗涤并在其中浸泡10~30min,使超滤膜基膜表面形成带负电的膜层;e.将步骤d所得表面带有负电层的超滤膜基膜浸入浓度为0.05~0.10mol/L的聚阳离子溶液中10~30min;使用纯水洗涤并在其中浸泡10~30min;f.将步骤a得到的超滤膜基膜浸入浓度为0.05~0.10mol/L的聚阴离子溶液中10~30min;使用纯水洗涤并在其中浸泡10~30min;g.重复步骤a和b,直至得到1-6层的聚电解质多层膜,在去离子水中浸泡2~10小时后,即得到所述的亲水性低截留分子量复合超滤膜。
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