[发明专利]CMOS图像传感器中器件的隔离结构无效

专利信息
申请号: 200710038043.9 申请日: 2007-03-14
公开(公告)号: CN101266986A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 赵立新;李文强;李杰 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司;格科微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/761;H01L21/76
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁
地址: 201203上海市浦东新区张江*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种CMOS图像传感器中新的器件隔离结构,所述的器件包括晶体管和光电二极管。新的隔离结构采用反型掺杂的阱区作为器件之间的隔离结构。本发明能改善图像传感器信噪比及暗电流特性的要求,且能进一步提高图像传感器的集成度。
搜索关键词: cmos 图像传感器 器件 隔离 结构
【主权项】:
1. 一种CMOS图像传感器中器件的隔离结构,所述的器件包括晶体管和光电二极管,其特征在于,所述的器件之间采用反型掺杂的阱区作为隔离区。
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