[发明专利]一种改进型抛光垫调节器工艺有效
| 申请号： | 200710039196.5 | 申请日： | 2007-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN101279435A | 公开（公告）日： | 2008-10-08 |
| 发明（设计）人： | 王莉;赵铁军 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改进型抛光垫调节器工艺，涉及化学机械抛光工艺。采用现有的抛光垫调节器工艺无法有效清除抛光垫表面的抛光液结晶，且抛光垫的使用寿命较短。本发明的改进型抛光垫调节器工艺，先采用高压水或抛光液冲洗和修整抛光垫表面以去除抛光液结晶，然后在低压条件下执行主抛光工序。较佳地，在高压冲洗和修整步骤中，抛光垫调节器的初始位置距离抛光垫中心1.4～1.6英寸。采用本发明的抛光垫调节器工艺，可减少抛光垫凹槽中的抛光液残留物，避免在抛光过程中造成晶圆表面的微擦伤，还能大大延长抛光垫的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进型 抛光 调节器 工艺 | ||
【主权项】：
1. 一种改进型抛光垫调节器工艺，其特征在于，所述工艺先采用高压水或抛光液冲洗和修整抛光垫表面以去除抛光液结晶，然后在低压条件下执行主抛光工序。
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