[发明专利]光学近距修正的方法有效
申请号: | 200710040245.7 | 申请日: | 2007-04-24 |
公开(公告)号: | CN101295129A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | 刘庆炜 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光学近距修正的方法,包括:对待曝光辅助图形的临界尺寸范围采样取值,获得临界尺寸范围离散值,对待曝光辅助图形与待曝光图形的距离范围采样取值,获得距离范围离散值;将所有的临界尺寸范围离散值与所有距离范围离散值进行组合形成离散值组合对;选取离散值组合对,根据与待曝光图形的距离取值,将对应的待曝光辅助图形放入待曝光图形周围;对待曝光图形进行光学近距修正;仿真待曝光图形在失焦和曝光能量偏移情况下在晶圆上的边缘布置误差;选取边缘布置误差最小的离散值组合对,将对应的待曝光辅助图形与待曝光图形转移至光罩上。经上述步骤,选取与待曝光图形距离最佳且临界尺寸最佳的待曝光辅助图形需要的时间短。 | ||
搜索关键词: | 光学 近距 修正 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学近距修正的方法,其特征在于,包括下列步骤:a.对待曝光辅助图形的临界尺寸范围采样取值,获得临界尺寸范围离散值,对待曝光辅助图形与待曝光图形的距离范围采样取值,获得距离范围离散值;b.将所有的临界尺寸范围离散值与所有距离范围离散值进行组合形成离散值组合对;c.选取一个未使用的离散值组合对,根据与待曝光图形的距离取值,将对应的待曝光辅助图形放入待曝光图形周围;d.对待曝光图形进行光学近距修正;e.仿真待曝光图形在失焦和曝光能量偏移情况下在晶圆上的边缘布置误差;f.如有剩余的离散值组合对,则重复c~e步骤;如没有,比较各离散值组合对的待曝光辅助图形对应的边缘布置误差;g.选取边缘布置误差最小的离散值组合对,将对应的待曝光辅助图形与待曝光图形转移至光罩上。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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