[发明专利]光罩的检测方法有效
| 申请号： | 200710040257.X | 申请日： | 2007-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN101295130A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 程仁强 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光罩的检测方法，包括，设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组线型检测图形；设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组孔型检测图形；至少在光罩的边缘和中心各设置一组线型检测图形或一组孔型检测图形或由一组线型检测图形和一组孔型检测图形共同构成的检测图形；制作光罩；测量光罩上的检测图形的特征尺寸；如果被测量图形的特征尺寸处于检测图形的特征尺寸的偏差范围内，则光罩合格；如果被测量图形的特征尺寸超出检测图形的特征尺寸的偏差范围，则光罩不合格。本发明光罩检测方法较全面。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光罩的检测方法，包括，设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组线型检测图形，其中所述栅距为图形的特征尺寸和图形间距之和；设置至少一种栅距的稀疏型图形和至少两种栅距的密集型图形来构成一组孔型检测图形，其中所述栅距为图形的特征尺寸和图形间距之和；至少在光罩的边缘和中心各设置一组线型检测图形或一组孔型检测图形或由一组线型检测图形和一组孔型检测图形共同构成的检测图形；制作光罩；测量光罩上的检测图形的特征尺寸；如果被测量图形的特征尺寸处于检测图形的特征尺寸的偏差范围内，则光罩合格；如果被测量图形的特征尺寸超出检测图形的特征尺寸的偏差范围，则光罩不合格。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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