[发明专利]一种对HSn70-1黄铜进行表面防腐蚀处理的方法无效

专利信息
申请号: 200710040268.8 申请日: 2007-04-29
公开(公告)号: CN101078122A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 徐群杰;万宗跃;黄诗俊 申请(专利权)人: 上海电力学院
主分类号: C23F11/00 分类号: C23F11/00
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 代理人: 吴宝根
地址: 200090上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种对HSn70-1黄铜进行表面防腐蚀处理的方法,包括下列步骤:a.HSn70-1黄铜表面处理:对HSn70-1黄铜进行0#~6#逐级打磨抛光、无水乙醇除油、去离子水洗净备用;b.配制缓蚀剂:配制浓度为10-2mol/L的植酸溶液,pH值为1.76~1.78;c.形成单分子阻蚀膜:将经过表面处理的HSn70-1黄铜浸渍于所述植酸溶液缓蚀剂中,浸渍温度为20~30℃,浸渍时间为0.5~2小时,最终在HSn70-1黄铜表面通过吸附形成一层植酸自组装单分子阻蚀膜。本发明自组装膜的形成抑制了HSn70-1黄铜腐蚀的阳极反应,增大了其阳极极化,达到了对HSn70-1黄铜进行表面防腐处理的目的。
搜索关键词: 一种 hsn70 黄铜 进行 表面 腐蚀 处理 方法
【主权项】:
1.一种对HSn70-1黄铜进行表面防腐蚀处理的方法,包括下列步骤:a.HSn70-1黄铜表面处理:对HSn70-1黄铜进行0#~6#逐级打磨抛光、无水乙醇除油、去离子水洗净备用;b.配制缓蚀剂:配制浓度为10-2mol/L的植酸溶液,pH值为1.76~1.78;c.形成单分子阻蚀膜:将经过表面处理的HSn70-1黄铜浸渍于所述植酸溶液缓蚀剂中,浸渍温度为20~30℃,浸渍时间为0.5~2小时,最终在HSn70-1黄铜表面通过吸附形成一层植酸自组装单分子阻蚀膜。
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