[发明专利]图像传感器及其形成方法有效
申请号: | 200710040424.0 | 申请日: | 2007-05-08 |
公开(公告)号: | CN101304035A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 霍介光 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L21/822;H01L21/761 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种图像传感器,包括:位于相邻像素单元区域的光电二极管区域之间的器件隔离层;位于半导体衬底表面下光电二极管区域的具有第一导电类型的第一掺杂阱及位于第一掺杂阱下具有第二导电类型的第二掺杂阱;在半导体衬底中器件隔离层下还形成有隔离阱,所述隔离阱的底部位于第二掺杂阱之下。本发明通过采用隔离阱对像素单元之间的光电二极管区域进行隔离,能够有效地阻止相邻像素单元的光电二极管区域产生漏电流;同时由于隔离阱位于器件隔离层之下,其底部位于光电二极管的第一掺杂阱之下,因此没有减小光电二极管区域面积,使得光电二极管性能得到保证。 | ||
搜索关键词: | 图像传感器 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括:具有第一导电类型的半导体衬底,所述半导体衬底包括第一像素单元区域和第二像素单元区域,每个像素单元区域具有光电二极管区域;位于半导体衬底中的、第一像素单元区域的光电二极管区域和第二像素单元区域的光电二极管区域之间的器件隔离层;位于光电二极管区域具有第二导电类型的第一掺杂阱,所述第二导电类型与第一导电类型相反;位于半导体衬底表面下第一掺杂阱上的具有第一导电类型的第二掺杂阱;其特征在于,在半导体衬底中还形成有隔离阱,所述隔离阱位于器件隔离层之下,所述隔离阱具有第一导电类型,所述隔离阱的底部位于第一掺杂阱之下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的