[发明专利]GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器有效
申请号: | 200710040613.8 | 申请日: | 2007-05-14 |
公开(公告)号: | CN101055882A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 陆卫;熊大元;李宁;甄红楼;张波;陈平平;李天信;李志锋;陈效双 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L27/144 | 分类号: | H01L27/144;H01L31/111 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种GaAs/AlGaAs/InGaAs双色量子阱红外焦平面探测器,该器件采用GaAs基材料,交替生长AlGaAs势垒/GaAs量子阱/AlGaAs势垒/InGaAs量子阱/AlGaAs势垒,利用GaAs量子阱中的子带间跃迁形成长波波段的探测,利用InGaAs量子阱中的子带间跃迁形成中波波段的探测。对长波探测的GaAs量子阱,AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层构成GaAs量子阱的势垒;对中波探测的InGaAs量子阱,AlGaAs/GaAs/AlGaAs层又构成了InGaAs量子阱的势垒,并且使AlGaAs/InGaAs/AlGaAs层的总厚度和AlGaAs/GaAs/AlGaAs层的总厚度为常规量子阱红外探测器中的一个势垒厚度,除掉了由于厚度增加使得器件的光电耦合效率下降的因素。在光电耦合方式中采用优化的二维双周期衍射光栅,在光栅刻蚀工艺中采用难度较小的浅深度刻蚀法。 | ||
搜索关键词: | gaas algaas ingaas 双色焦 平面 探测器 | ||
【主权项】:
1.一种GaAs/AlGaAs/InGaAs双色焦平面探测器,包括GaAs衬底(1),在GaAs衬底上置有多量子阱外延薄膜,通过常规的器件芯片制备工艺在外延薄膜上形成的光敏元列阵;其特征在于:所说的光敏元列阵上置有通过刻蚀形成的交叉排列的响应中波和长波的二维衍射光栅,由此而构成交叉排列的响应中波光敏元(6)和响应长波光敏元(7)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的