[发明专利]光刻误差的计算方法无效
| 申请号： | 200710041903.4 | 申请日： | 2007-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101067728A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 金晓亮;郑铭仁;梁强 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201203上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻误差的计算方法，其利用类神经网络模型(Neural Network model，NN model)计算半导体光刻工艺中叠对(overlay)的误差值，将误差源设为多个由多个细胞元(cell)所构成的部分，并在类神经网络模型中建立一权重表记录每一细胞元的初始权重，利用测量过程中所产生的误差前馈以调整权重表中的初始权重值，得到新的权重，并以此新权重做为下一批次工作的初始权重，由于此新权重比原本的初始权重更贴近正确值，因此得知，利用类神经网络模型的计算可得到最佳化的叠对误差，当有新产品需要试运可用这些数据来得到较佳的预测，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 误差 计算方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻误差的计算方法，其特征在于：利用一类神经网络模型计算光刻叠对中下一批次工作的误差，具体包括下列步骤：(a)假设一叠对误差源由多个部分所组成，且每一该部分皆包含多个细胞元；(b)从该类神经网络模型中取得每一该细胞元的一初始权重，并利用该类神经网络模型的一测量模块计算后取得一计算结果，加总得到一第一误差值；以及(c)将该计算结果中的一前馈误差回传至相关的该细胞元，利用该计算结果及该第一误差值计算出一新初始权重。
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