[发明专利]一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法有效
| 申请号： | 200710041956.6 | 申请日： | 2007-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN101324758A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 白兰萍;敖松泉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻机的监测系统，该监测系统包括能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统；所述能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统均包括若干晶片；所述能量稳定性监测系统与所述焦点稳定性监测系统共用一组晶片；该共用晶片组中的部分晶片完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。本发明揭示的光刻机的监测系统通过能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统共用若干片晶片，从而起到降低资源消耗的作用；同时，共用晶片的提出，也减少了监测系统中晶片的总体工作量，可以提高工作效率、减少人工操作量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 监测 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻机的监测系统，该监测系统包括能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统；所述能量稳定性监测系统完成光刻机能量稳定性的监测、及关键线宽的量测；所述焦点稳定性监测系统完成最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测；所述能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统均包括若干晶片；其特征在于：所述能量稳定性监测系统与所述焦点稳定性监测系统共用一组晶片；所述共用的一组晶片中，部分晶片完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。
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