[发明专利]半开放式立体虚像成像设备无效
| 申请号： | 200710042940.7 | 申请日： | 2007-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN101334583A | 公开（公告）日： | 2008-12-31 |
| 发明（设计）人： | 曾文捷 | 申请（专利权）人： | 曾文捷 |
| 主分类号： | G03B21/28 | 分类号： | G03B21/28;G02B5/08;G02B7/188;A63J5/02 |
| 代理公司： | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘峰 |
| 地址： | 200240上海市闵行区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种半开放式立体虚像成像设备，包括一成像装置，一反射膜，由无色透明介质形成，具有部分透明、部分反射光学特性，倾斜设置在成像装置的光路上；一框架，用于以一定角度倾斜设置反射膜；框架在外侧面上还设置有遮光板。本发明的设备还在虚像成像面后部设置有深色背景板。本发明由于配置了遮光板和深色背景板，有效解决了外界光线对反射膜的光干扰，在虚像立体清晰的前提下较好地消除了虚像成像面上的灰白色背景，使整台设备在使用中获得了逼真的视觉效果，可以广泛应用在广告、展示、演艺、会议、宣传等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 半开 立体 虚像 成像 设备 | ||
【主权项】：
1、一种半开放式立体虚像成像设备，包括：一成像装置，用于提供实像像源；一反射膜，由无色透明介质形成，具有部分透明、部分反射光学特性，倾斜设置在所述成像装置的光路上；一框架，用于以一定角度倾斜设置所述反射膜；其特征在于：所述框架在外侧面上还设置有遮光板，所述遮光板用于遮挡外界光线对所述反射膜的光干扰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于曾文捷，未经曾文捷许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710042940.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：热处理炉用水冷套
- 下一篇：环冷机给料装置的大块矿溜槽闸门
