[发明专利]开放式立体虚像成像设备无效

专利信息
申请号: 200710042941.1 申请日: 2007-06-28
公开(公告)号: CN101334584A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 曾文捷 申请(专利权)人: 曾文捷
主分类号: G03B21/28 分类号: G03B21/28;G02B5/08;G02B7/188;A63J5/02
代理公司: 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 刘峰
地址: 200240上海市闵行区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种开放式立体虚像成像设备,包括一成像装置,一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置反射膜;框架在反射膜的至少一端部设置有膜台,膜台包括与框架固接的一滑槽,多个夹块沿反射膜端部的长度方向排列在滑槽中并夹持反射膜,各夹块通过调整钉可在滑槽中调整位移。本发明的设备仅需旋拧多个夹块上的调整钉即可实现反射膜的平整度调整,使整台设备在使用中具有良好的便利性。借助于螺纹结构可以精确地控制反射膜的平整度。并且膜台调整后夹块的位置保持度良好。可以广泛应用在广告、展示、演艺、会议、宣传等领域。
搜索关键词: 开放式 立体 虚像 成像 设备
【主权项】:
1、一种开放式立体虚像成像设备,包括:一成像装置,用于提供实像像源;一反射膜,由无色透明介质形成,具有部分透明、部分反射光学特性,倾斜设置在所述成像装置的光路上;一框架,用于以一定角度倾斜设置所述反射膜;其特征在于:所述框架在所述反射膜的至少一端部设置有膜台,所述膜台包括与所述框架固接的一滑槽,多个夹块沿所述反射膜端部的长度方向排列在所述滑槽中并夹持所述反射膜,各所述夹块通过调整钉可在所述滑槽中调整位移。
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