[发明专利]用于投影扫描光刻机的对准方法及微器件制造方法有效
| 申请号： | 200710044153.6 | 申请日： | 2007-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101114134A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 韦学志;李运锋;徐荣伟;周畅;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/22 | 分类号： | G03F7/22;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于扫描投影光刻机的利用三个基本光栅周期的相位光栅探测的对准方法，以及使用该方法的微器件制造方法。本发明的用于投影扫描光刻机的对准方法在基底标记或基底台基准标记使用三周期相位光栅，只利用这三个周期的一级衍射光作为对准信号，可以实现大的捕获范围的同时获得高的对准精度和较强的信号强度，提高系统信噪比，简化光路设计和调试难度，简化硬件实现和缩小信号处理时间开销，提高对准效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投影 扫描 光刻 对准 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于投影扫描光刻机的对准方法，其特征在于：使用对准辐射源照射对准标记得到对准标记信号，使用透镜组聚焦所述对准标记信号，使用对准标记信号检测器收集被聚焦的所述对准标记信号，使用位移测量系统收集扫描过程中的位移信号，使用收集到的所述对准标记信号和所述位移信号确定所述对准标记的位置。
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