[发明专利]一种高状态比的无机薄膜电双稳器件及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200710044502.4 申请日: 2007-08-02
公开(公告)号: CN101101963A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 徐伟;季欣 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于微电子器件和功能薄膜材料技术领域,具体涉及一种高状态比的无机薄膜电双稳器件及其制作方法。器件为Ag-CN1-Al结构,二端的银和铝做电极。其中的CN1为无机介质层,由真空热蒸发沉积的硫氰酸钾薄膜与部分银底电极反应获得的薄膜。这种夹层结构的薄膜器件具有稳定的可逆电双稳特性;高电阻态和低电阻态的阻值比通常为106~107倍,甚至可以更高。本发明的电双稳器件,其结构和制作工艺简单,在信息存贮、信息处理以及逻辑运算领域有广泛的应用价值。
搜索关键词: 一种 状态 无机 薄膜 电双稳 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1、一种高状态比的无机薄膜电双稳器件,其特征在于采用银-无机介质层-铝结构。其中,二端的金属层银和铝作为电极,中间的无机介质层作为功能介质层,是由硫氰酸钾和部分银底电极反应制备获得的薄膜。
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