[发明专利]一种沉积炉管有效
| 申请号： | 200710044854.X | 申请日： | 2007-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN101368289A | 公开（公告）日： | 2009-02-18 |
| 发明（设计）人： | 董彬;宋大伟;赵星;郝学涛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/08 | 分类号： | C30B25/08 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种沉积炉管，包括外管，内管，气体反应腔，气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟，所述气体反应腔形成于内管内，晶舟置入气体反应腔内，所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴，岐管上形成有复数安装通孔，安装通孔上设有一缺槽；所述喷嘴对应所述缺槽的位置处形成有一凸台，所述凸台收容于所述缺槽内，如此设计的气体注入器使得喷嘴在岐管内的位置相对固定，输入反应腔的气体依预设浓度分布，化学反应后沉积在晶圆上的薄膜层厚度分布均匀，提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 炉管 | ||
【主权项】：
1.一种沉积炉管，其结构包括外管，内管，气体反应腔，气体注入器以及用于承载晶圆的晶舟，所述气体反应腔形成于内管内，所述晶舟置入气体反应腔内，所述气体注入器可将半导体制程所需的气体输送至气体反应腔内，其特征在于：所述气体注入器包括岐管及装设于岐管上的复数喷嘴，岐管上形成有复数用于安装所述喷嘴的安装通孔，且在所述岐管内壁上开设有与所述安装通孔相连的预定深度的缺槽，所述碰嘴对应所述缺槽于外表面上形成有凸台，所述凸台收容于所述缺槽内。
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