[发明专利]用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法有效
| 申请号： | 200710045037.6 | 申请日： | 2007-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN101140422A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李焕炀;陈勇辉;宋海军 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模对准标记及对准方法。该掩模对准标记的部分结构与其它部分不一致，通常较长，能够提高标记分支进行对准扫描的捕获能力，提高粗扫描的成功率，能够提高对准扫描生成的对准信息的对比度，也提高对准处理过程中所采用信息的信噪比，从而提高掩模对准的精度。通过径向粗精扫描和切向旋转粗精扫描相结合生成莫尔条纹信息的方法，提高对准扫描的效率；通过相互垂直的两个方向上进行沿近似垂直于所用对准标记分支中光栅方向的粗精扫描相结合生成莫尔条纹信息的方法，提高对准扫描的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 对准 标记 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模对准标记，分别置于掩模台的掩模上和工件台的基准板上，用于提供掩模光学对准，其特征在于：所述的掩模对准标记包括第一、第二和第三对准标记分支，其中，第一和第三对准标记分支由三个光栅标记结构组成，第二对准标记分支呈方形透射孔状分布，且第一和第三对准标记分支关于第二对准标记分支互为旋转90°替换。
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