[发明专利]用于改善碲镉汞液相外延薄膜表面形貌的石墨舟有效

专利信息
申请号: 200710045151.9 申请日: 2007-08-22
公开(公告)号: CN101109105A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 魏彦锋;徐庆庆;杨建荣;陈新强 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: C30B19/06 分类号: C30B19/06;C30B29/48
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于改善碲镉汞液相外延薄膜表面形貌的石墨舟,该石墨舟的特征是将原置于母液槽的前方或后方的汞源槽改为置于母液槽的正上方,两槽之间有通道相通,汞源槽产生的汞蒸气通过通道从母液槽的顶面向母液补充汞,使得汞源槽产生的汞蒸气对母液的补充更为均匀,从而母液上方的压力更为均匀,同时母液槽前后方的结构相似,促使母液槽周围的温场更为均匀。本发明的优点是:可以最大程度上消除压力和温场的不均匀,减缓母液对流,从而降低外延材料表面的波纹。
搜索关键词: 用于 改善 碲镉汞液相 外延 薄膜 表面 形貌 石墨
【主权项】:
1.一种用于改善碲镉汞液相外延薄膜表面形貌的石墨舟,包括:底板(6)、滑块(5)、盖板(4)和底座(10);底板(6)固定在底座(10)上,滑块(5)置在底板(6)上面,滑块相对底板可左右移动;底板上开有与外延衬底一样大小的衬底孔道,衬底孔道以底座作为托底构成衬底槽(7),衬底槽内置有调节衬底与槽口高度的石英垫片(12),石英垫片上放置衬底(13);滑块上开有放置母液(8)的母液孔道,母液孔道以底板作为托底构成母液槽(1),盖板(4)盖在滑块(5)上,其特征在于:在盖板上面有一与盖板成一体的用于放置碲化汞(9)的汞源槽(3),汞源槽上盖有汞源槽盖板(11),汞源槽的相对两槽壁内各均布嵌有二条通道(2),通道的一端与汞源槽上部相通,另一端贯通盖板,当盖板盖在滑块上时,要使通道下面的开孔正好落在母液槽内,通过通道使母液槽与汞源槽相通。
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