[发明专利]检测光刻设备排气系统和判断产品CPK的方法有效
| 申请号： | 200710045484.1 | 申请日： | 2007-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN101377622A | 公开（公告）日： | 2009-03-04 |
| 发明（设计）人： | 柳会雄;张轲;余云初;王跃刚 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在光刻领域检测机器排气系统的方法，其主要包括，选择一个光阻，并且绘制出摆动曲线；在摆动曲线上，任意选择一点作为检测点，并找出这个点上的光阻厚度；在晶圆上涂布该选定厚度的光阻；统计出这些晶圆的特征尺寸；比较这些晶圆特征尺寸的数据；如果这些数据在一标准方差的范围之内，则证明该机器设备的排气系统是良好的；如果这些数据在一标准方差的范围之外，则需要检查一下过程日志，确定哪个排气装置出现故障后，就需要设备工程师来检查设备的排气系统。这种方法不用停机就能检测机器的排气系统是否出现问题，不但能提高机器的工作效率，而且还能节省人力。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 光刻 设备 排气 系统 判断 产品 cpk 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在光刻领域检测机器排气系统的方法，其特征在于，该方法包括:步骤1，选择一个光阻，并且绘制出摆动曲线；步骤2，在摆动曲线上，任意选择一个点作为检测点，并找出这个点上的光阻厚度；步骤3，在晶圆上涂布该选定厚度的光阻；步骤4，收集这些晶圆的特征尺寸数据；步骤5，比较这些晶圆特征尺寸的数据；步骤6，如果这些数据在一标准方差的范围之内，则证明该机器设备的排气系统是良好的；步骤7，如果这些数据在一标准方差的范围之外，则需要检查一下过程日志，从而确定哪个排气装置出现故障。
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