[发明专利]双向分束器、使用其的对准系统及使用该系统的光刻装置有效
申请号: | 200710046957.X | 申请日: | 2007-10-11 |
公开(公告)号: | CN101165597A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 徐荣伟 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/207;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种双向分束器、使用该分束器的对准系统及使用该系统的光刻装置,通过在像面探测对准标记的±1级衍射光相干成像经参考光栅调制后的光强变化,同时在光瞳面探测对准标记的高级次衍射光的相同级次的正、负级衍射光斑重叠相干的各级次干涉信号强度变化,产生的信号有较强工艺适应性、高灵敏度和高信噪比,由信号的位相信息得到对准标记的位置信息。并且,该对准系统采用基于一个双向分束器和两个级结合干涉仪的正、负级次衍射光斑重叠相干系统结构和原理,有效降低了级结合干涉仪的设计、加工和装调的难度。 | ||
搜索关键词: | 双向 分束器 使用 对准 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于光刻装置的对准系统的双向分束器,其特征在于:包括反射区域和透射区域,所述反射区域完全反射入射光,所述透射区域完全透过入射光。
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