[发明专利]一种集成电路随机序列号产生的方法无效
申请号: | 200710048343.5 | 申请日: | 2007-01-26 |
公开(公告)号: | CN101009215A | 公开(公告)日: | 2007-08-01 |
发明(设计)人: | 邹铮贤;肖宁;朱国军 | 申请(专利权)人: | 四川登巅微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/82;G06F7/58 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 620300四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 集成电路生产制造过程中由于边缘效应,离子注入和表面态效应以及载流子迁移率的变化等不理想因素会造成的元器件的不匹配性,利用高增益放大电路检测元器件间的不匹配并转化为与之相对应的数字电平,由于元器件之间的这种不匹配性随机性很强,因此使用多个放大电路单元可以实现了多位随机序列号的产生。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成电路 随机 序列号 产生 方法 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路随机序列号产生的方法,其特征在于,该随机序列号由集成电路制造过程中产生;其产生的步骤如下:a、运用检测电路检测出集成电路制造过程中匹配半导体元器件之间产生的微小不匹配;b、将检测出的不匹配性转换成相应的电信号;c、运用放大器电路对该电信号进行放大;d、放大后的电信号经过信号处理后即输出一位随机数字信号;e、运用多个以上随机数字信号产生单元组成的电路,便产生多位随机数字信号,即随机序列号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川登巅微电子有限公司,未经四川登巅微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710048343.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:膝部保护用气囊装置
- 下一篇:包含CloretazineTM的治疗组合物
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造