[发明专利]等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺无效
| 申请号： | 200710048387.8 | 申请日： | 2007-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN101195913A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 高原;郑英;徐晋勇;程东;唐光辉;高清 | 申请（专利权）人： | 桂林电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C8/30;C23C8/36;C23C10/10;C23F17/00;C21D1/00 |
| 代理公司： | 桂林市华杰专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 罗玉荣 |
| 地址： | 541004广西壮族自*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开了等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺。其特征是在低于700℃的温度条件下，首先进行离子氮碳共渗或离子氮化工艺，然后进行等离子渗铬工艺分步复合或同时进行氮、碳、铬共渗，在被渗工件表面得到碳氮铬合金层。本发明的优点在于：将渗铬温度从高于铁素体向奥氏体转变的相变点降到其温度之下，节约能源、资源、简化工艺、方便操作；形成更合理，成分可控的含有铬合金元素与非金属元素碳、氮的表面强化层；复合处理工艺过程全部采用当代先进的等离子体辉光放电技术，设备紧凑，工艺适用，操作方便，有利于技术的推广和应用。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 复合 处理 低温 形成 铬碳氮 表面 合金 工艺 | ||
【主权项】：
1.等离子复合处理低温形成铬碳氮表面合金层工艺，包括离子氮碳共渗及离子氮化技术，金属和非金属元素等离子共渗技术，其特征是：将离子氮碳共渗或离子氮化工艺与低温离子渗铬技术结合，全部工艺均在低于700℃的温度条件下进行，在钢铁材料表面形成含有铬碳氮或铬氮的表面合金层。
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