[发明专利]金属基底上合成纳米金刚石的方法及应用无效
| 申请号： | 200710051245.7 | 申请日： | 2007-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101024876A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | 周建;刘桂珍;王琳;欧阳世翕 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/511;C23C16/513 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 王守仁 |
| 地址： | 430070湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明是一种金属基底上合成纳米金刚石的合成方法及应用。所述合成方法是：在金属基底上预沉积一层金属Ti纳米颗粒膜；在金属Ti纳米颗粒膜上，形成纳米TiC颗粒膜；以纳米TiC颗粒膜作为核，采用微波等离子的方法沉积纳米金刚石膜。本发明提供的金属基底上合成纳米金刚石的合成方法工艺简单，容易实施；所合成的纳米金刚石，其膜与金属基底具有牢固的结合，并且金刚石膜表面光滑，从而利于用于精细加工领域即能够作为精细加工刀具的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基底 合成 纳米 金刚石 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种金属基底上合成纳米金刚石的方法，其特征是所述包括以下的步骤：(1)在金属基底上预沉积一层金属Ti纳米颗粒膜；(2)利用微波等离子体沉积金刚石膜环境中的含碳气源，使金属Ti纳米颗粒膜形成纳米TiC颗粒膜；(3)以纳米TiC颗粒膜作为核，采用微波等离子的方法沉积纳米金刚石膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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