[发明专利]一种高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法无效
| 申请号： | 200710052198.8 | 申请日： | 2007-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN101050339A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 靳洪允;侯书恩;潘勇 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学（武汉） |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;G02B6/38 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 唐万荣 |
| 地址： | 430074湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明的涉及一种用于光纤连接器陶瓷插针微内孔超精密抛光使用的高纯度纳米金刚石抛光膏及其制备方法。一种高纯度纳米金刚石抛光膏，其特征在于它由金刚石微粉、润湿剂、表面活性剂、分散稳定剂、pH调节剂和甘油为原料制备而成，各原料所占重量百分比为：金刚石微粉：0.05～5％、润湿剂：0.01～25％、表面活性剂：0.1～5％、分散稳定剂：0.1～50％、pH调节剂：0.1～1％、甘油：14～99.64％；所述的金刚石微粉的纯度大于或等于99.9％，粒度分布为100～200nm。该抛光膏具有两溶性、具有较高的抛光速率、良好的分散稳定性、粘度适中，能有效的防止被抛光陶瓷插针微内孔表面产生，经检测，插入损耗和回波损耗均达到国标要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纯度 纳米 金刚石 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高纯度纳米金刚石抛光膏，其特征在于它由金刚石微粉、润湿剂、表面活性剂、分散稳定剂、pH调节剂和甘油为原料制备而成，各原料所占重量百分比为：金刚石微粉：0.05～5％；润湿剂： 0.01～25％；表面活性剂：0.1～5％；分散稳定剂：0.1～50％；pH调节剂： 0.1～1％；甘油： 14～99.64％；所述的金刚石微粉的纯度大于或等于99.9％，粒度分布为100～200nm。
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