[发明专利]低偏振模色散包层模抑制型光敏光纤及其制备方法有效
| 申请号： | 200710052516.0 | 申请日： | 2007-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN101078800A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 涂峰;韩庆荣;杨晨 | 申请（专利权）人： | 长飞光纤光缆有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;C03B37/01 |
| 代理公司： | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人： | 马辉 |
| 地址： | 430073*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低偏振模色散包层模抑制型光敏光纤及其制备方法，其特征是：在光纤的芯层中掺入了46％－54％锗元素，光纤的NA值为0.25－0.31，光纤芯层的折射率的增大Δ值为1.8％－2.1％，光纤内包层的下陷型折射率相对差值Δ在－0.1％－1％。本发明具有很高的边模抑制比和很低的偏振模色散值，使得使用这种光纤刻写的光栅能够使用在高速的通信系统中，在完成器件性能的同时，不引入有害的影响，为光纤通信和传感系统提供优良的原器件。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 色散 包层 抑制 光敏 光纤 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种低偏振模色散包层模抑制型光敏光纤，其特征是：在光纤的芯层中掺入了46％-54％锗元素，光纤的NA值为0.25-0.31，光纤芯层的折射率的增大Δ值为1.8％-2.1％，光纤内包层的下陷型折射率相对差值Δ在-0.1％--1％。
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