[发明专利]分子自组装单层膜/石英砂吸附剂的制备方法及其应用无效
| 申请号： | 200710053334.5 | 申请日： | 2007-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN101185879A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 孙振亚 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | B01J20/22 | 分类号： | B01J20/22;B01J20/10 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 唐万荣 |
| 地址： | 430070湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种吸附剂的制备方法及其应用。分子自组装单层膜/石英砂吸附剂的制备方法，其特征在于它包括如下步骤：1)基质的预处理：以石英砂为基质，用有机溶剂超声洗涤石英砂5～30min，再用HNO3或piranha溶液进行表面处理，使石英砂表面羟基化，置于烘箱50～80℃干燥后，得预处理后的基质，待用；2)自组装单层的形成：将预处理后的基质浸入含有体积浓度为0.2％～2％的(Y)Si(CH2)n－X的苯溶液中，10～240分钟后取出基质；用有机溶剂洗涤、干燥，得到自组装单层；然后将自组装单层在50～70℃经质量浓度为25～35％H2O2氧化20～24小时后，再用0.1～0.5M H2SO4处理1～3小时，即得到分子自组装单层膜/石英砂吸附剂。本发明具有高吸附性能的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 分子 组装 单层 石英砂 吸附剂 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.分子自组装单层膜/石英砂吸附剂的制备方法，其特征在于它包括如下步骤：1)基质的预处理：以石英砂为基质，用有机溶剂超声洗涤石英砂5～30min，再用HNO3 或piranha溶液进行表面处理，使石英砂表面羟基化，置于烘箱50～80℃干燥后，得预处理后的基质，待用；2)自组装单层的形成：将预处理后的基质浸入含有体积浓度为0.2％～2％的(Y)Si(CH2)n-X的苯溶液中，10～240分钟后取出基质；(Y)Si(CH2)n-X式中，Y表示与硅相连的官能团，Y为-OCH3或-Cl，n表示烷基数，n≥3，X表示活性官能团，X为-SH、-SO3H、-COOH、-OH或-NH2；用有机溶剂洗涤、干燥，得到自组装单层；然后将自组装单层在50～70℃经质量浓度为25～35％H2O2氧化20～24小时后，再用0.1～0.5M H2SO4处理1～3小时，即得到分子自组装单层膜/石英砂吸附剂。
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