[发明专利]原位自生Mg2Si/AM60复合材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710053784.4 申请日: 2007-11-05
公开(公告)号: CN101195875A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 闫洪;胡勇;陈国香 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: C22C1/02 分类号: C22C1/02;C22C23/00
代理公司: 南昌洪达专利事务所 代理人: 刘凌峰
地址: 330031江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种原位自生Mg2Si/AM60复合材料的制备方法,其特征是制备方法为:采用机械搅拌,硅(Si)的加入量为0.5%-5%,反应温度780-800℃,反应时间30min,其加热过程是在井式电阻炉中,并在镁合金上覆盖自制的阻燃剂以阻燃,反应之后进行机械搅拌,搅拌时间5-10min。本发明的积极效果是:生产制备的Mg2Si/AM60复合材料,增强相在基体中分布均匀,力学性能优越,而且工艺简单、安全可靠,无三废污染。
搜索关键词: 原位 自生 mg sub si am60 复合材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种原位自生Mg2Si/AM60复合材料的制备方法,其特征是制备方法为:采用机械搅拌,硅(Si)的加入量为0.5%-5%,反应温度780-800℃,反应时间30min,其加热过程是在井式电阻炉中,并在镁合金上覆盖自制的阻燃剂以阻燃,反应之后进行机械搅拌,搅拌时间5-10min。
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