[发明专利]提高光学相干层析术成像质量的方法无效
| 申请号： | 200710057515.5 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101057777A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 刘亦珩;梁艳梅;母国光 | 申请（专利权）人： | 南开大学 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;G06T5/40 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300071*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 提高光学相干层析术成像质量的方法。包括：采用拟作为概率密度函数的各函数对光学相干层析原始图像的归一化直方图进行最小二乘拟合；选择残差平方和最小的函数及其参数作为最佳的拟合函数；通过改变所选择函数的参数实现函数的展宽；用展宽后的函数对光学相干层析原始图像做直方图匹配；最后获得对比度增强并适合人眼观察的光学相干层析输出图像。其中，可选作概率密度函数的函数特征是：函数值只有唯一极大峰或是随自变量增加而递减，且当自变量趋于无穷大时函数值趋于0的函数。本发明可根据不同扫描样品的特征自动选择合适的函数及参数进行直方图匹配处理，实现对样品的最佳成像，克服了现有技术中主观设定参数的缺点，而且不会造成信息丢失。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 光学 相干 层析 成像 质量 方法 | ||
【主权项】：
1、一种提高光学相干层析术成像质量的方法，其特征是，该方法按如下步骤实现：(1)计算光学相干层析系统采集的原始图像的归一化直方图；(2)采用拟作为概率密度函数的各函数对原始图像的归一化直方图进行最小二乘拟合；(3)选择残差平方和最小的函数及其参数作为最佳的拟合函数；(4)通过改变所选择函数的参数实现函数的展宽；(5)用展宽后的函数对光学相干层析原始图像做直方图匹配；(6)最后获得对比度增强并适合人眼观察的光学相干层析输出图像。
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