[发明专利]一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法无效
| 申请号： | 200710062764.3 | 申请日： | 2007-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN101226401A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 张善贵 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G05B21/02 | 分类号： | G05B21/02;G06F17/16;H01L21/00;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑立明;任红 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明所述的是一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，采用主元分析(PCA)和多元线性回归(MVR)的方法给出了一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法。实验结果表明，该方法的预测精度基本上满足现有的工艺标准，它对于提高工艺的质量和实现工艺的反馈控制能够起到重要的作用。本发明利用历史数据，采用主元分析(PCA)和主元回归(PCR)的方法来建立工艺结果参数与工艺过程参数之间的函数方程，从而实现工艺灵敏度的准确分析，进而控制等离子刻蚀工艺过程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 工艺 过程 中的 灵敏度 分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，包括：A、将当前等离子刻蚀工艺过程的数据样本代入设定的工艺函数方程得出等离子刻蚀工艺过程的工艺灵敏度指标；B、根据当前的等离子刻蚀工艺过程的工艺灵敏度指标确定是否结束等离子刻蚀工艺过程。
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