[发明专利]具有内透明集电极的绝缘栅双极晶体管无效

专利信息
申请号: 200710063086.2 申请日: 2007-01-26
公开(公告)号: CN101009323A 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 亢宝位;单建安;周文定 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/43;H01L29/417
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 沈波
地址: 100022*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明为一种具有内透明集电极的绝缘栅双基晶体管(IGBT),它是一种功率半导体开关器件,它是在现有PT-IGBT结构中的P+型衬底与N型缓冲层之间加入一层厚度很薄、掺杂浓度低于P+衬底的P型内透明集电区并且在内透明集电区中或/和附近有具有很低过剩载流子寿命的载流子寿命控制区。本发明的具有内透明集电区的IGBT具有通态电压正温度系数,利于并联使用和具有良好的热稳定性;同时在制造过程中又因具有PT-IGBT的较厚的硅片而利于用现行的PT-IGBT工艺进行制造,具有高的生产成品率。本发明为击穿电压1200V以内的常用IGBT提供了一种易于制造又具有电压正温度系数的良好性能的IGBT结构。
搜索关键词: 具有 透明 集电极 绝缘 双极晶体管
【主权项】:
1、具有内透明集电极的绝缘栅双极晶体管,由位于硅片第一表面(12)上的金属化集电极层(1),与集电极层邻近的位于硅片内部的P+型硅衬底层(2),与衬底层邻接的N型缓冲层(3),与缓冲层邻接的掺杂浓度更低的N-型硅基区层(4),与基区层邻接的P型硅体区(5),与P型硅体区相邻接的位于硅片第二表面(15)下硅中的N型硅源区(6),位于硅片第二表面上的二氧化硅栅氧化层(7),栅氧化层上的多晶硅栅电极(8),金属化源电极组成,其中源区,体区,基区,栅氧化层和多晶硅栅电极构成金属-氧化物-半导体场效应晶体管,衬底层,缓冲层,基区和体区构成PNP双极晶体管,其特征在于:在衬底层与缓冲层之间有一个内透明集电极,内透明集电极由一层掺杂浓度低于P+型硅衬底层(2)的P型内透明集电区层(10)和局域载流子寿命控制层(11)构成,所述的局域载流子寿命控制层在内透明集电区层中或附近,或者在内透明集电区层中和内透明集电区层附近。
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